装置包括可拆卸的溅射腔体、溅射靶台、真空抽气系统、测量系统、进气系统等部分组成。 本实验采用同轴二极溅射结构，在真空室内以沉积材料为阴极，加工样品为阳极，工作期间两极间加直流电压引起放电，放电气体中的离子被加速轰击靶面，溅射粒子沉积在基片表面成膜。 可以完成光学薄膜材料的制备及其光学特性的测量、金属薄膜的制备等实验。通过这些实验可让实验者理解直流溅射原理，掌握直流溅射薄膜材料的工艺方法。 ◆溅射靶台和溅射靶距离可调节，研究在不同距离时对薄膜溅射的影响。◆溅射基片可进行加热，加热温度可控，研究基片温度对薄膜溅射的影响。◆溅射气压、溅射气源流量可调节，研究不同气压、气源流量对薄膜溅射的影响。◆反应腔体采用石英玻璃管，可直观地观察到溅射现象。◆工作气体可调节更换，并可多路气体混合工作。 1、溅射腔体外形尺寸：Ф140mm 150mm。2、溅射靶台：Ф70mm 20mm。3、溅射靶台和溅射靶可调距离：10～50mm。4、基片加热温度可控范围：室温～80℃。5、溅射气压可调范围：10Pa～200Pa。6、溅射电压：0V～1000V连续可调。7、溅射电流：0～200mA可测。8、气源流量可控范围：6～60ml/min； 25～250ml/min。9、供电电源:AC220V,50Hz,10、整机功率1.5KW。